Investigadores del MIT utilizan IA para descubrir defectos atómicos en materiales

Investigadores del MIT han desarrollado un modelo de IA que clasifica y cuantifica hasta seis tipos de defectos puntuales en materiales semiconductores utilizando datos de dispersión de neutrones de forma no invasiva. Este avance permite medir defectos atómicos que mejoran la resistencia mecánica, la conductividad eléctrica y la eficiencia en la conversión de energía sin dañar los materiales. Liderado por Mouyang Cheng y Mingda Li, el modelo se entrenó con 2.000 materiales y representa un nuevo paradigma en la ciencia de defectos para semiconductores, microelectrónica, células solares y baterías.